چکیده: در این تحقیق به مطالعه مورفولوژی سطح، خواص ساختاری، اپتیکی، الکتریکی و اپتوالکترونیکی (اثر فوتورسانایی) لایه‏های نازک نانو ساختار اکسید مس (CuO) تهیه شده به روش رسوب‏گذاری حمام شیمیایی بر روی زیرلایه‏ های شیشه و FTO پرداخته‏ایم. برای مشخصه‌یابی نمونه‏ها از دستگاه‎های میکروسکوپ الکترون روبشی گسیل میدانی (FESEM)، پراش پرتو ایکس (XRD)، طیف سنجی UV-Vis، مشخصه‌یابی جریان-ولتاژ (I-V) استفاده شد. به منظور تهیه لایه‏های نازک CuO، از محلولی مخلوط از پودر کلرید مس دو آبه (CuCl2.2H2O)، محلول آمونیاک به همراه آب یون زدایی شده استفاده شد. پارامترهای متغیر در این تحقیق عبارتند از: زمان لایه‌نشانی و بازپخت، مدت زمان و دمای بازپخت (بخش 4-2)، غلظت محلول (بخش 4-3) و سرانجام نوع زیرلایه (شیشه و FTO) (بخش 4-4). بسته به شرایط رشد، تصاویر FESEM نمونه‌ها نشانگر شکل گیری نانو ساختارهای مختلف شامل نانو رشته‌ها و نانو دانه‌ها بر روی سطح لایه‌ها می باشد. نتایج الگوی پراش پرتو ایکس نشان دهنده تشکیل ساختار بس‌بلوری در فاز مونوکلینیک در راستای (111-) برای همه نمونه‌ها و تشکیل فاز اضافی Cu2O در نمونه‌های بازپخت شده و فاز اضافی آتاکامیت (Cu2Cl(OH)3) در نمونه‌ی با غلظت محلول بیشتر است. ما همچنین دریافتیم که فرایند بازپخت می‌تواند به بهبود خواص الکتریکی و اپتوالکترونیکی (اثر فوتورسانش) نمونه‌ها در مقایسه با لایه‌های تازه‌رشد یافته منجر شود.