چکیده: در این تحقیق تجربی ریخت شناسی، خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک نانوساختار اکسید مس خالص (CuO) و ساختار پیوندگاهی ناهمگون CuO/ZnO:Al رشد داده شده به روش افشانه تجزیه حرارتی را مورد بررسی قرار داده ایم. برای مشخصه یابی فیزیکی نمونه ها از دستگاه های میکروسکوپ الکترونی روبشی میدانی (FESEM)، پراش پرتو ایکس (XRD)، طیف سنجی UV-Vis و اندازه گیری جریان - ولتاژ و همچنین اثر سیبک استفاده کرده ایم. در تهیه لایه های اکسید مس (CuO) با استفاده از محلول استات مس پارامتر های گوناگون از جمله دمای زیرلایه (250، 300، 350، 400 و ºC 450)، آهنگ لایه نشانی (6/1، 3/2 و ml/min 5)، غلظت محلول (05/0 ، 10/0 و M15/0) مورد بررسی قرار گرفت. در بخش پایانی خواص الکتریکی و اپتوالکتریکی ساختار ناهمگون CuO/ZnO:Al که بر روی زیرلایه رسانای شفاف FTO رشد یافته است مطالعه شد.