چکیده: دستگاه پلاسمای کانونی قابلیت تولید پلاسمایی به صورت پر چگال (3-m1026~) و با دمای بالا (KeV1~) را دارد. ستون پلاسمایی ایجاد شده با این شرایط، قادر به گسیل مقدار قابل توجهی اشعه ی ایکس نرم بصورت پالسی در یک طیف گسترده می باشد. به دلیل پالسی بودن و گستردگی طیف، اشعه ایکس نرم گسیل شده از این دستگاه کاربردهای فراوانی از جمله در پزشکی و لیتوگرافی و... داشته و در کانون توجه بسیاری از دانشمندان قرار گرفته است. در این پایان نامه سعی شده است که با استفاده از دستگاه پلاسمای کانونی شاهرود (SHUPF) چگونگی تغییرات انرژی اشعه ی ایکس نرم گسیل شده از گاز کاری آرگون را در فشارها و ولتاژهای مختلف با استفاده از عایق هایی با جنس یکسان و طول متفاوت بررسی کنیم. در روند انجام آزمایشات برای راهبرد این پایان نامه از دیاگنوستیک های زیر به منظور آشکارسازی سیگنال های مورد نظر استفاده نموده ایم. 1.پیچه ی رگوفسکی: برای آشکارسازی سیگنال جریان و مشتق جریان به منظور آگاهی از پینچ شدن لایه ی جریان .2.پروب ولتاژ :برای آشکارسازی سیگنال تغییرات ولتاژ .3.آشکارساز BPX-65: برای آشکارسازی سیگنال های اشعه ی ایکس خروجی از کانال های فوتودیود. بعد از انجام آزمایشات در شرایط یکسان نتیجه گرفتیم که در یک ولتاژ ثابت با افزایش طول عایق میزان انرژی اشعه ی ایکس نرم گسیل شده از دستگاه کاهش می یابد. همچنین برای یک عایق خاص با افزایش ولتاژ مقدار فشار بهینه برای داشتن مقدار بهینه ی انرژی اشعه ی ایکس نرم،افزایش می-یابد. با بررسی نمودارها نیز نتیجه گرفتیم که در تمامی عایق ها در یک ولتاژ ثابت، با افزایش فشار کاری دستگاه، میزان انرژی اشعه ی ایکس نرم دستگاه به تدریج زیاد شده و در یک فشار به مقدار ماکزیمم خود می رسد. بعد از عبور از این فشار بهینه، با افزایش فشار میزان انرژی اشعه ی ایکس نرم دستگاه شروع به کاهش می نماید. در روند آزمایشات به پدیده ی چند پینچی برخورد کردیم. میزان انرژی اشعه ی ایکس نرم گسیل شده از دستگاه را در پینچ دوم اندازه گیری نموده و نتیجه گرفتیم که در زمان پینچ دوم مقدار بیشتری اشعه ی ایکس نرم از دستگاه پلاسمای کانونی نسبت پینچ اول گسیل می شود.