چکیده: در این تحقیق به مطالعه ی مورفولوژی سطح، خواص ساختاری، اپتیکی، الکتریکی و همچنین بررسی اثر فوتورسانایی نانوساختارهای اکسید مس (CuO) رشد داده شده به روش اکسایش حرارتی بر روی زیرلایه-های مسی، شیشه، FTO و ITO پرداخته ایم. برای مشخصه یابی فیزیکی نمونه ها از دستگاه های میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FESEM)، پراش پرتو ایکس (XRD)، دستگاه طیف سنجی نوری (UV-Vis)، اندازه گیری جریان-ولتاژ و همچنین بررسی اثر فوتورسانایی با استفاده از LED آبی و قرمز پرداخته ایم. در تهیه لایه های اکسید مس بر روی زیرلایه مس آنها را در دماهای 500،400 و ͦC 600 به مدت 2، 3 و 4 ساعت در حضور هوا پخت داده ایم (بخش 4-2)، همچنین ورقه مس را به دو شیوه "پیوسته" و "پلکانی" در بازه های زمانی 400- ͦC 500 و 400- ͦC 600 نیز در حضور هوا گرمادهی کردیم (بخش 4-3). برای تهیه نمونه ها بر روی زیرلایه های شیشه، FTO و ITO آنها را در دو حالت با و بدون لایه چسبنده مورد بررسی قرار دادیم (بخش 4-4). ضمناً نمونه های مربوط به بخش های (4-3) و (4-4) جهت بررسی اثر فوتورسانایی مورد مطالعه قرار گرفته است. بطور کلی تصاویر FESEM نمونه های سنتز شده حاکی از شکل گیری نانوسیم ها بر روی زیرلایه مس و نانو دانه هایی بر روی زیرلایه های شیشه، FTO و ITO می باشد. نتایج الگوهای پراش پرتو ایکس نشانگر شکل گیری ساختار بس بلوری در فاز مونوکلینیک برای نمونه های تهیه شده بر روی زیرلایه مس با راستای (111-) و برای سایر نمونه ها بر روی زیرلایه های دیگر با راستای (111) رشد پیدا کرده اند. بررسی اثر فوتورسانایی نمونه ها نشان دهنده ی آن است که مورفولوژی سطح، اندازه بلورک ها و رسانندگی الکتریکی لایه ها بر حساسیت نوری نمونه تاثیر گذار است.