چکیده: چکیده الاستومر های مگنتورئولوژیکال (MREs) مواد هوشمندی هستند که از الاستومرهای (مواد لاستیکی-مانند) تقویت‌شده با ریزذرات مغناطیسی، تشکیل شده اند. این مواد در واکنش به میدان مغناطیسی اعمال شده، تغییراتی در خواص مکانیکی خود مانند سفتی و میرایی، بروز می دهند. مطالعه خواص رئولوژیکی MREها بسیار مهم است زیرا باعث درک بهتر نحوه تغییر الاستیسیته و ویسکوزیته آن ها تحت تأثیر عواملی چون میدان مغناطیسی و دما می شود و می تواند کاربردهای بالقوه آن ها در دستگاه‌های قابل انطباق و کنترل نظیر لرزش گیرها، رباتیک نرم و سیستم‌های مکانیکی قابل تنظیم را توسعه دهد. در این پژوهش، تأثیرات میدان مغناطیسی آماده سازی نمونه ها، شدت میدان مغناطیسی و دمای حین آزمایش، کرنش، فرکانس زاویه ای اعمالی و زاویه زنجیره های ساختاری ماتریس بر خواص مکانیکی-مگنتورئولوژیکال MREهای ساخته شده، در حالت برشی بررسی شده است. در این کار هفت نوع الاستومر مگنتورئولوژیکال همسانگرد و ناهمسانگرد، تحت چهار میدان مغناطیسی آماده سازی مختلف و دو زاویه زنجیر ه ای متفاوت ساخته شدند. خواص ساختاری، مورفولوژی و خواص مغناطیسی نمونه های ساخته شده الگوهای پراش پرتو ایکس (XRD)، تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدان (FESEM)، آنالیز اندازه ذره (PSA) و مغناطیس سنج نمونه ارتعاشی (VSM) بررسی شدند. خواص ویسکوالاستیک و مکانیکی نمونه های ساخته شده توسط یک دستگاه رئومتر، تحت تغییر شکل دینامیک برشی-چرخشی، تغییر دما و میدان های مغناطیسی بررسی گردید. بر پایه داده های رئومتری آزمایش های جاروبی دامنه و فرکانس، یک مدل مغناطیسی-ویسکوالاستیک جدید برای الاستومرهای مگنتورئولوژیکال همسانگرد و ناهمسانگرد در حوزه ویسکوالاستیسیته خطی (LVER) معرفی و استواری و قدرت پیش بینی آن نیز نشان داده شد. مدل پدیدارشناختی ارائه شده، رفتار ویسکوالاستیک الاستومرهای مگنتورئولوژیکال همسانگرد و ناهمسانگرد در حالت برشی را، تحت تأثیر عواملی چون میدان مغناطیسی آماده سازی، شدت میدان مغناطیسی و دمای حین اندازه گیری، فرکانس زاویه ای و زاویه زنجیره های ساختاری ماتریس اعمالی پیش بینی می کند. نتایج تجربی حاصل نشان دادند که افزایش دما و میدان مغناطیسی حین آزمایش به ترتیب سبب کاهش و افزایش مدول ویسکوالاستیک می شود. از سوی دیگر افزایش دما و میدان مغناطیسی سبب افزایش اثر مگنتورئولوژیکال (MR) می شود. همچنین افزایش میدان آماده سازی نمونه ها افزایش مدول برشی را به دنبال دارد. تغییرات دما، میدان مغناطیسی آزمایش و میدان مغناطیسی آماده سازی منجر به تغییر اثر پین نیز خواهد شد.