مشارکت مرکز رشد فناوری های نوین دانشگاه صنعتی شاهرود بر برگزاری رویداد چالش فناوری

دوشنبه ۱۳ تیر ۱۴۰۱- ۱۰:۴۵:۱۸

 به دنبال راهکارهایی  برای رفع چالش های  صنعت  میکروالکترونیک کشور می باشد.

محورهای رویداد:

الف – ساخت محصول فناورانه:

1-  طراحی  و ساخت پروب سرد

2- طراحی  و ساخت  لایه  underfill  با توجه به  نتایج شبیه سازی  ها و مهندسی معکوس

3-طراحی  و ساخت ستاپ PL

ب- چالش فناورانه :

1-تست CVو ارائه  مشخصات قابل استخراج برای تست اکسید در Si

2-ارائه روش  تست  لایف  تایم و موبیلیتی  در لایه های  خاص

3-ارائه  روش تست  DLTS

4-ارائه  پروسس فلو برای لیتوگرافی با استفاده از رزیست منفی و دلوپر مناسب بر روی لایه Al/TiW  و AL/TiN  بدون  آسیب  زیرلایه

5-استخراج استیوکیومتری لایه  های بازنشانی شده

6-بررسی و تحلیل اتصالات  و لایه های فلزی بازنشانی شده و استخراج  مقاومت آنها

7- طراحی  پروسه سولفوریشن برای آشکارساز  نوری  بر روی بستر مورد  نظر

8- سایر موضوعات مرتبط (جهت آگاهی به آدرس مرکز ایمیل  (info@sofic.ir) ارسال نمایید.)

مراحل رویداد :

دریافت  پروپوزال ها :   تا تاریخ  30  تیر 

بررسی  و اعلام  نتیجه  اولیه : 15  مرداد 

عقد  قرار داد  و حمایت  از نمونه  اولیه : 30مرداد   

 معرفی تیم های برگزیده  در رویداد  :    20 شهریور