{
    "metadata": {
        "dataset_id": "shahroodut-thesis",
        "record_id": "QC350",
        "title": "سنتز و مطالعه خواص اپتوالکترونیکی لایه‏ های نازک نانوساختار اکسید مس",
        "publisher": "دانشگاه صنعتی شاهرود",
        "owner": "کتابخانه مرکزی دانشگاه صنعتی شاهرود",
        "license": "CC-BY-4.0",
        "license_url": "https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/",
        "license_text": "استفاده، بازنشر، تحلیل، پردازش و بهره برداری پژوهشی، آموزشی و صنعتی با ذکر منبع دانشگاه صنعتی شاهرود مجاز است.",
        "publication_date": "1395",
        "last_update": "2026-07-04",
        "language": "fa",
        "format": "application/json",
        "contact": "thesis@shahroodut.ac.ir",
        "access": {
            "fulltext_available": "true",
            "public_access": "true"
        }
    },
    "data": {
        "thesis_id": "QC350",
        "title": "سنتز و مطالعه خواص اپتوالکترونیکی لایه‏ های نازک نانوساختار اکسید مس",
        "degree": null,
        "faculty": "فيزیک",
        "year": 1395,
        "authors": [
            {
                "name": "صفیه نقدی جیرکل",
                "role": "پدیدآور اصلی"
            },
            {
                "name": "حسین  عشقی",
                "role": "استاد راهنما"
            }
        ],
        "keywords": [
            "اکسید مس",
            "رسوب‏گذاری حمام شیمیایی (CBD)",
            "لایه نازک",
            "نانوساختارها",
            "مورفولوژی سطح",
            "خواص ساختاری",
            "خواص اپتیکی",
            "خواص الکتریکی",
            "خواص فوتورسانایی"
        ],
        "abstract": "در این تحقیق به مطالعه مورفولوژی سطح، خواص ساختاری، اپتیکی، الکتریکی و اپتوالکترونیکی (اثر فوتورسانایی) لایه‏های نازک نانو ساختار اکسید مس (CuO) تهیه شده به روش رسوب‏گذاری حمام شیمیایی بر روی زیرلایه‏ های شیشه و FTO پرداخته‏ایم. برای مشخصه‌یابی نمونه‏ها از دستگاه‎های میکروسکوپ الکترون روبشی گسیل میدانی (FESEM)، پراش پرتو ایکس (XRD)، طیف سنجی UV-Vis، مشخصه‌یابی جریان-ولتاژ (I-V) استفاده شد. \r\n      به منظور تهیه لایه‏های نازک CuO، از محلولی مخلوط از پودر کلرید مس دو آبه (CuCl2.2H2O)، محلول آمونیاک به همراه آب یون زدایی شده استفاده شد. پارامترهای متغیر در این تحقیق عبارتند از: زمان لایه‌نشانی و بازپخت، مدت زمان و دمای بازپخت (بخش 4-2)، غلظت محلول (بخش 4-3) و سرانجام نوع زیرلایه (شیشه و FTO) (بخش 4-4). \r\n      بسته به شرایط رشد، تصاویر FESEM نمونه‌ها نشانگر شکل گیری نانو ساختارهای مختلف شامل نانو رشته‌ها و نانو دانه‌ها بر روی سطح لایه‌ها می باشد. نتایج الگوی پراش پرتو ایکس نشان دهنده تشکیل ساختار بس‌بلوری در فاز مونوکلینیک در راستای (111-) برای همه نمونه‌ها و تشکیل فاز اضافی Cu2O در نمونه‌های بازپخت شده و فاز اضافی آتاکامیت (Cu2Cl(OH)3) در نمونه‌ی با غلظت محلول بیشتر است. ما همچنین دریافتیم که فرایند بازپخت می‌تواند به بهبود خواص الکتریکی و اپتوالکترونیکی (اثر فوتورسانش) نمونه‌ها در مقایسه با لایه‌های تازه‌رشد یافته منجر شود.\r\n ",
        "repository": "کتابخانه مرکزی دانشگاه صنعتی شاهرود",
        "note": "حقوق مادی و معنوی متعلق به دانشگاه صنعتی شاهرود می باشد.",
        "download_url": "https://shahroodut.ac.ir/fa/thesis/files/somefiles/sf_QC350.pdf"
    },
    "dictionary": {
        "thesis_id": "شناسه پایان نامه",
        "title": "عنوان پایان نامه",
        "degree": "مقطع تحصیلی",
        "faculty": "دانشکده",
        "year": "سال دفاع",
        "authors": "پدیدآورندگان",
        "keywords": "کلیدواژه ها",
        "abstract": "چکیده",
        "repository": "محل نگهداری",
        "note": "یادداشت",
        "download_url": "آدرس فایل پایان نامه"
    }
}